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第452章 光刻机（第1页）

想要进入研究院的车间。

那复杂程度不亚于西天取经。

防护服得穿上。

然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。

在经过紫外线照射等等环节。

从准备到进入，差不多要花上一个多小时。

没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。

光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。

再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。

如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。

光在哪里传播呢？自然是空气。

这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。

哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。

现在91年，光刻机的精密度还没有那

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